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供应12V1000A真空镀膜专用电源价格,离子镀膜偏压电源,真空磁控溅射镀膜电源

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    段女士
  • 职   位:
    销售
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  • 地   址:
    四川 成都 青羊区 金沙遗址路68号
品牌:KDL型号:KDL类型:AC/DC电源
输入电压:220/380V输出功率:12000W调制方式:脉冲宽度调制(PWM)式
晶体管连接方式:全桥式输出电压:0-12V工作效率:95%
输出纹波噪音:1%输出电压精度:1%电压调整率:1%
负载调整率:1%产品认证:KDL输出电流:0-1000A可调A

供应12V1000A真空镀膜专用电源价格,离子镀膜偏压电源,真空磁控溅射镀膜电源详细介绍

本公司生产的真空镀膜电源(真空蒸发镀膜电源和真空溅射镀膜电源)有以下特点:

1、恒流输出,不随气压变化。 

2、抑制靶材弧光放电及抗短路功能具有***的负载匹配能力。

3、工艺重复性好。

4、提高成膜速度, 实现高质量的溅射膜层。
  
详细说明:
                                          
真空镀膜电源                                       

真空镀膜行业不同于以往的电镀行业,属于物理方式的表面处理行业。广泛用于各种金属及非金属镀膜装置,涂镀光元件、微电子元件、磁性元件、钟表、种类装饰材料、体育用品、精密工模具、薄膜包装等镀膜制品,以及应用于现代工业、航空航天航海等军事领域的镀耐蚀膜、耐磨损膜、固体润滑膜装置。    真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度                                                                             HV,UHV)而拥有统一名称。真空镀膜主要分类有两个大种类:蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等。                                                      

一、对于蒸发镀膜: 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。                                                                     

  对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
      
真空镀膜电源是真空镀膜设备的重要组成部分。例如在真空溅射设备中就是由溅射室、磁控溅射靶、对向磁控靶、射频电源、直流电源、样品加热转台、真空获得及测量系统、电控系统、气路系统、微机控制膜层系统等组成。       

      本公司自主研发生产的真空镀膜电源,成功地运用了优异的脉宽调制技术(PWM),引进三菱、富士等国外进的IGBT核心执行元件,大功率机器采用结构均流技术,并配以各种完善的保护功能,使得高频开关电源可靠性问题得到了圆满解决,满足低纹波要求,且体积小、重量轻、节能环保,是一种性价比***异的直流电源产品,也是可控硅整流电源的替代品。                   

·                              技术参数

·                               

品名

真空镀膜电源

型号

SPWM系列

输入

相数

单相或三相

电压

220/380V

频率

50Hz

输入方式

4线(含地线)

输出

波形

直线

功率

30KW /60KW /100KW(可定制)

电压

0—1200V(可定制)

稳定度

≤1%

电流

0—200A(可定制)

稳定度

≤1%

纹波及杂讯

≤5%≤3%

效率

90%

控制

功率

可选择

电压

恒压控制,可本地控制也可通过0-10V4-20mA

电流

可选择

保护

具备缺相、过热、限压、恒功率、过压、过流、短路、超载等保护功能

冷却

风冷

外型

外壳

 

尺寸(W*D*H)

482.6mm*600mm*266.7mm30KW   

重量

30KG30KW 

备注

 

·                               

 


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